Zatosowanie technik plazmowych do płytkiej implantacji jonów

Tytuł:: Zatosowanie technik plazmowych do płytkiej implantacji jonów
Współwytwórcy:: Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Politechnika Łódzka. Wydział Mechaniczny. Instytut Inżynierii Materiałowej
Szmidt, Jan
Gronau, Ryszard
Przemysłowy Instytut Elektroniki
Marendziak, Andrzej
Gotszalk, Teodor Paweł
Politechnika Warszawska. Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych. Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
Konarski, Piotr
Rylski, Adam
Data publikacji:: 2004
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: polski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Streszcz. ang.

Materiały z konferencji: VIII Konferencja "Technologia Elektronowa ELTE'2004"; Stare Jabłonki, 19-22 kwietnia 2004.

Informacja