Wytwarzanie i charakteryzacja cienkich warstw tlenku hafnu dla zastosowań w technologii MOSFET w węgliku krzemu

Tytuł:: Wytwarzanie i charakteryzacja cienkich warstw tlenku hafnu dla zastosowań w technologii MOSFET w węgliku krzemu
Współwytwórcy:: Płuska, Mariusz
Łaszcz, Adam
Mroczyński, Robert
Instytut Technologii Elektronowej
Gutt, Tomasz
Małachowski, Tomasz
Wzorek, Marek
Pasternak, Iwona
Rzodkiewicz, Witold
Gierałtowska, Sylwia
Dynowska, Elżbieta
Sochacki, Mariusz
Taube, Andrzej
Politechnika Warszawska. Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych. Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki
Korwin-Mikke, Katarzyna
Piotrowska, Anna
Szmidt, Jan
Instytut Fizyki PAN
Data publikacji:: 2011
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: polski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Streszcz. ang.

Materiały z konferencji: X Krajowa Konferencja Elektroniki; Darłówko Wschodnie, 05.06-09.06.2011.

Informacja