Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Structural, optical and electrical characterization of Co-Pd doped TiO2 semiconducting thin films sputtered on silicon

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Structural, optical and electrical characterization of Co-Pd doped TiO2 semiconducting thin films sputtered on silicon
Współwytwórcy:: Berlicki, Tadeusz (1944- )
Misiewicz, Jan (1952- )
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Kaczmarek, Danuta (mikroelektronika)
Instytut Elektrotechniki
Domaradzki, Jarosław (elektronika)
Kudrawiec, Robert
Mielcarek, Witold
Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki. Instytut Fizyki
Prociów, Eugeniusz
Data publikacji:: 2003
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: angielski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Structural, optical and electrical characterization of Co-Pd doped TiO2 semiconducting thin films sputtered on silicon