Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy
Autorzy:: Kucharska, Barbara
Współwytwórcy:: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Wydział Informatyki, Elektroniki i Telekomunikacji. Katedra Elektroniki
Kanak, Jarosław
Kulej, Edyta
Politechnika Częstochowska. Wydział Inżynierii Produkcji i Technologii Materiałów. Instytut Inżynierii Materiałowej
Data publikacji:: 2009
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: angielski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Bibliogr.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Investigation of the topography of magnetron-deposited Cu/Ni multilayers by X-ray reflectometry and atomic force microscopy