Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Tytuł pozycji:

Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching

Szczegóły
Opis

Tytuł:: Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching
Autorzy:: Zubel, Irena
Współwytwórcy:: Rola, Krzysztof
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Data publikacji:: 2011
Źródło:: Biblioteka Narodowa
Język:: angielski
Prawa:: http://www.europeana.eu/rights/rr-r/
Publikacja chroniona prawem autorskim - reprodukcja cyfrowa dostępna w czytelniach BN i na terminalach Academiki
Dostawca treści:: Academica
: Artykuł

Przejdź do źródła

Materiały z konferencji: 10th Electron Technology ELTE 2010 and 34th International Microelectronics and Packaging IMAPS/CPMT Poland Joint Conference; Wrocław, 22-25 September 2010.

Bibliogr.

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching