Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu

Tytuł:: Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu
Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu = SiCN films deposited by RF magnetron sputtering
Autorzy:: Stańczyk Beata
Data publikacji:: 2011
Wydawca:: ITME
Słowa kluczowe:: RF sputtering
SIMS
widmo podczerwieni
dyfrakcja rentgenowska
Elektronika - czasopismo - materiały
widmo optycznej absorpcji
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
Electronic - journal - materials
sputtering
SiCN
x-ray diffraction
IR spectrum
absorption spectrum
Źródło:: http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmeEN/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_6051
http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmePL/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_6051
ITME, sygn. dostępny
Język:: polski
Prawa:: Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony
Rights Reserved - Free Access
Linki:: https://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/27810/content Link otwiera się w nowym oknie
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
: Książka

Przejdź do źródła

18-23 s. : il. 30 cm.

Bibliogr. s. 23

Informacja