Materiały Elektroniczne 1983 nr 2(42)

Tytuł:: Materiały Elektroniczne 1983 nr 2(42)
Badanie zależności kinetycznych procesu polerowania płytek krzemowych
Badanie zależności kinetycznych procesu polerowania płytek krzemowych = The kinetic dependences in the polishing of silicon wafers
Autorzy:: Jaskólska Anna
Współwytwórcy:: Żołek Ewa
Data publikacji:: 1983
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: Electronic - materials
chemical-mechanical polishing
Materiały elektroniczne
polerowanie chemiczno-mechaniczne
Si wafer
Electronic - journal - materials
Elektronika - czasopismo - materiały
Źródło:: http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmeEN/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_5571
http://katalog.pan.pl/webpac-bin/218bitmePL/wgbroker.exe?new+-access+top+search+open+NR+kv_5571
ITME, sygn. dostępny
Język:: polski
Prawa:: Prawa zastrzeżone - dostęp nieograniczony
Rights Reserved - Free Access
Linki:: https://rcin.org.pl/dlibra/publication/edition/7663/content Link otwiera się w nowym oknie
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
: Książka

Przejdź do źródła

s. 33-[44] : il.

s. 33-[44] : il. ; 24 cm.

Bibliogr. s. [44]

Informacja