Badanie fotoelektrochemicznych właściwości nanostrukturalnych materiałów WO3-CuOx

Celem pracy było zbadanie fotoelektrochemicznych właściwości anodowego WO3 modyfikowanegotlenkami miedzi i/lub miedzią. Tlenek wolframu(VI) otrzymano metodą anodyzacji przy wartości przyłożonegopotencjału 50 V stosując jako elektrolit 1 M (NH4)2SO4 z dodatkiem 0,075 M NH4F. Następnie tak otrzymane warstwytlenkowe poddano impregnacji przez 5, 10 i 24 h w roztworze 25 mM Cu(CH3COO)2•H2O, a następnie wygrzewano w500 °C w celu uzyskania tlenków CuOx/WO3. Drugą zastosowaną metodą było chemiczne osadzanie cząstek Cupoprzez zanurzanie próbek na 10 min w roztworze 10 mM Cu(CH3COO)2•H2O oraz na 10 min w roztworze 10 mMNaBH4 (przeprowadzono 3, lub 5 cykli). Morfologię powierzchni otrzymanych materiałów zbadano za pomocą technikiskaningowej mikroskopii elektronowej (SEM), a także w celu ustalenia składu stechiometrycznego próbek wykonanoanalizy EDS. Zbadano właściwości fotoelektrochemiczne zmodyfikowanych warstw WO3 wykonując pomiaryfotoelektrochemiczne.

The aim of the work was to investigate the photoelectrochemical properties of anodic modified WO3copper oxides and / or copper. Tungsten oxide (VI) was obtained by anodising the applied value50 V potential using 1 M (NH4) 2SO4 electrolyte with the addition of 0.075 M NH4F. Then the layers obtainedoxide sheets were impregnated for 5, 10 and 24 h in a solution of 25 mM Cu (CH 3 COO) 2 • H 2 O, followed by annealing in500 ° C to obtain CuOx / WO3 oxides. The second method used was the chemical deposition of Cu particlesby immersing the samples for 10 minutes in a solution of 10 mM Cu (CH3COO) 2 • H2O and for 10 minutes in a solution of 10 mMNaBH4 (3 or 5 cycles were performed). The surface morphology of the obtained materials was examined by means of a techniquescanning electron microscopy (SEM), as well as to determine the stoichiometric composition of the samples were madeEDS analysis. The photoelectrochemical properties of the modified WO3 layers were tested by taking measurementsphotoelectrochemical.