- Tytuł:
-
Badanie maskowania procesu termicznego utleniania krzemu przez chemicznie osadzane warstwy azotku krzemu = Masking investigation of silicon thermal oxidation process by chemically deposited Si3N4 films
Badanie maskowania procesu termicznego utleniania krzemu przez chemicznie osadzane warstwy azotku krzemu
Materiały Elektroniczne 1975 nr 1(9) - Autorzy:
- Skrzynecka Irena
- Data publikacji:
- 1975
- Wydawca:
- Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
- Słowa kluczowe:
-
Si
Elektronika - czasopismo - materialy
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
CVD
termiczne utlenianie
Electronic - journal - materials
Si3N5
thermal oxidation - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka