- Tytuł:
-
Materiały Elektroniczne 2013 T. 41 nr 1
Badanie właściwości szkliw pod kątem zastosowań w grubowarstwowych mikrorezystorach fotoformowalnych = Investigation of glasses for application in thick-film photoimageable microresistors
Badanie właściwości szkliw pod kątem zastosowań w grubowarstwowych mikrorezystorach fotoformowalnych - Autorzy:
- Kiełbasiński Konrad
- Współwytwórcy:
-
Achmatowicz Selim
Zwierkowska Elżbieta
Jakubowska Małgorzata
Młożniak Anna - Data publikacji:
- 2013
- Wydawca:
- ITME
- Słowa kluczowe:
-
napięcie powierzchniowe szkliwa
grubowarstwowe mikrorezystory fotoformowane
glass surface tension
thick film photoimageable microresistors resistors - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych