- Tytuł:
- Dissolution Behavior of Metal Impurities and Improvement of Reclaimed Semiconductor Wafer Cleaning by Addition of Chelating Agent
- Autorzy:
-
Ryu, Keunhyuk
Kim, Myungsuk
Roh, Jaeseok
Lee, Kun-Jae - Data publikacji:
- 2021
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
- Tematy:
-
reclaimed silicon wafer
wafer cleaning
metal impurity
metal complex
chelating agent - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki