- Tytuł:
-
Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV
Zastosowanie selektywnego trawienia chemicznego do określenia położenia ścięć bazowych na monokrystalicznych płytkach o orientacji (100) wiązków półprzewodnikowych typu AIIIBV Joanna Pawłowska, Anna Bańkowska. = Application of selective chemical etching to producing on the orientation flats on the wafers III-V semiconducting compounds
Materiały Elektroniczne 2008 T.36 nr 3 - Autorzy:
- Pawłowska Joanna
- Współwytwórcy:
- Bańkowska Anna
- Data publikacji:
- 2008
- Wydawca:
- ITME
- Słowa kluczowe:
-
Elektronika - czasopismo - materiały
Electronic - journal - materials
flats
chemical etching AIIIBV materials
trawienie chemiczne AIIIBV
ścięcie bazowe
Materiały elektroniczne
Electronic - materials - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych