- Tytuł:
- Comparison of composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated by PECVD and ultrashallow rf plasma ion implantation
- Autorzy:
-
Mroczyński, R.
Bieniek, T.
Beck, R. B.
Ćwil, M.
Konarski, P.
Hoffman, P.
Schmeißer, D. - Data publikacji:
- 2007
- Wydawca:
- Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
- Tematy:
-
ultra-thin dielectrics
oxynitride
SIMS
XPS
PECVD - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki