- Tytuł:
- Wpływ dawki prekursora procesu ALD w na jakość warstw AR i AS wykorzystywanych technologiach fotowoltaicznych
- Autorzy:
- Kwaśnicki, Paweł
- Data publikacji:
- 2024
- Słowa kluczowe:
-
moduł fotowoltaiczny
warstwa zapobiegająca zabrudzeniom
ALD
Al2O3-TiO2
photovoltaic module
anti- soiling layer
ALD Atomic Layer Deposition - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech