- Tytuł:
- Influence of high Al fraction on reactive ion etching of AlGaN/GaN heterostructures
- Autorzy:
-
Gryglewicz, J.
Stafiniak, A.
Wosko, M.
Prazmowska, J.
Paszkiewicz, B. - Data publikacji:
- 2013
- Słowa kluczowe:
-
reactive ione etching
HEMT
AlGaN/GaN heterostructure - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech