- Tytuł:
- Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target
- Autorzy:
-
Rakowski, R.
Bartnik, A.
Fiedorowicz, H.
Jarocki, R.
Kostecki, J.
Krzywinski, J.
Mikolajczyk, J.
Pina, L.
Ryc, L.
Szczurek, M.
Ticha, H.
Wachulak, P. - Data publikacji:
- 2006
- Słowa kluczowe:
-
laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source
gas puff target
Mo/Si mirrors
EUV spectroscopy - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech
Artykuł