- Tytuł:
-
Dyfuzja niklu w procesie wzrostu klrzemowych warstw epitaksjalnych
Materiały Elektroniczne 1994 T.22 nr 4
Dyfuzja niklu w procesie wzrostu klrzemowych warstw epitaksjalnych = Nickel diffusion during the growth of epitaxial silicon - Autorzy:
- Plewa Dariusz
- Współwytwórcy:
-
Kamiński Paweł
Kozłowski Roman - Data publikacji:
- 1994
- Wydawca:
- ITME
- Słowa kluczowe:
-
silicon epitaxy
dyfuzja
Ni
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
nickel diffusion
Electronic - journal - materials
epitaksja krzemu
Elektronika - czasopismo - materiały - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych