- Tytuł:
-
Badanie dyslokacji w krzemie i w krzemowych warstwach epitaksjalnych za pomocą rentgenowskiej topografii odbiciowej metodą Berga-Barretta = The investigation of dislocations in Si and in epitaxial Si layers by Berg-Barret x-ray reflection topography
Materiały Elektroniczne 1975 nr 2(10)
Badanie dyslokacji w krzemie i w krzemowych warstwach epitaksjalnych za pomocą rentgenowskiej topografii odbiciowej metodą Berga-Barretta - Autorzy:
- Wierzchowski Wojciech
- Data publikacji:
- 1975
- Wydawca:
- Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
- Słowa kluczowe:
-
warstwa epitaksjalna
X-ray reflection topography
epitaxial Si layer
Elektronika - czasopismo - materialy
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
dyslokacja
rentgenowska topografia odbiciowa
dislocation
Electronic - journal - materials - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka