- Tytuł:
- Ultra-płytka implantacja fluoru z plazmy w.cz. jako metoda poprawy właściwości elektro-fizycznych struktur MIS z dielektrykami bramkowymi wytwarzanymi metodą PECVD
- Autorzy:
-
Kalisz, M.
Mroczyński, R.
Beck, R. B. - Data publikacji:
- 2011
- Słowa kluczowe:
-
ultra-płytka implantacja
fluor
plazma w.cz.
MOS
PECVD
ultra-shallow implantation
fluorine
RF plasma - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech
Artykuł