Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "rf sputtering" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-4 z 4
Tytuł:
Effect of RF magnetron sputtering conditions on microstructure and X-ray characteristics of yttria-stabilized zirconia thin films = Wpływ warunków sputeringu magnetronowego na mikrostrukturę i charakterystykę rentgenowską cienkich warstw dwutlenku cyrkonu stabilizowanego tlenkiem itru
Materiały Elektroniczne 1996 T.24 nr 2/3
Autorzy:
Tomaszewski Henryk
Współwytwórcy:
De Roo Nico
De Gryse Roger
Haemers Johan
Data publikacji:
1996
Wydawca:
ITME
Słowa kluczowe:
XRD
magnetron sputtering
YSZ
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
rozpylanie magnetronowe
Electronic - journal - materials
ZrO
Elektronika - czasopismo - materiały
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
    Wyświetlanie 1-4 z 4

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies