- Tytuł:
- Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach
- Autorzy:
-
Luo, N.
Gao, Y.
Zhimin, Z.
Mengchao, X.
Huaming, W. - Data publikacji:
- 2012
- Słowa kluczowe:
-
gradual gray-scale lithography
DMD pixel error
axicon array
microlens array - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech
Artykuł