- Tytuł:
- Wpływ materiału maskującego na jakość odwzorowania w procesie suchego trawienia węglika krzemu 4H-SiC w plazmie chlorowej
- Autorzy:
-
Stonio, Bartłomiej
Kwietniewski, Norbert
Firek, Piotr
Słowikowski, Mateusz
Pavłov, Krystian
Sochacki, Mariusz
Szmidt, Jan - Data publikacji:
- 2019
- Słowa kluczowe:
-
węglik krzemu
4H-SiC
trawienie plazmowe
Cl2
ICP
silicon carbide
plasma etching - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech