Wszystkie pola: rf sputtering

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Crystal Structure And Optical Properties Of TiO2 Thin Films Prepared By Reactive RF Magnetron Sputtering
Autorzy:: Goto, S.
Adachi, Y.
Matsuda, K.
Nose, M.
Data publikacji:: 2015
Słowa kluczowe:: TiO2
rutile
anatase
sputtering
XRD
rutyl
anataz
rozpylanie
dyfrakcja promieniowania rentgenowskiego; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Crystal Structure And Optical Properties Of TiO2 Thin Films Prepared By Reactive RF Magnetron Sputtering
Charakterystyka cienkich warstw TiO2 otrzymanych metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego RF
Autorzy:: Goto, S.
Adachi, Y.
Matsuda, K.
Nose, M.
Data publikacji:: 2015
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:: TiO2
rutile
anatase
sputtering
XRD
rutyl
anataz
rozpylanie
dyfrakcja promieniowania rentgenowskiego; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Mechanical Properties And Microstructure Of AlN/SiCN Nanocomposite Coatings Prepared By R.F.-Reactive Sputtering Method
Autorzy:: Nakafushi, Y.
Matsuda, K.
Nose, M.
Data publikacji:: 2015
Słowa kluczowe:: AlN
SiCN
XRD
sputtering
TEM
dyfrakcja promieniowania rentgenowskiego
rozpylanie; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Mechanical Properties And Microstructure Of AlN/SiCN Nanocomposite Coatings Prepared By R.F.-Reactive Sputtering Method
Właściwości mechaniczne i mikrostruktura powłok nanokompozytowych AlN/SiCN wytworzonych metodą reaktywnego rozpylania jonowego RF
Autorzy:: Nakafushi, Y.
Matsuda, K.
Nose, M.
Data publikacji:: 2015
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:: AlN
SiCN
XRD
sputtering
TEM
dyfrakcja promieniowania rentgenowskiego
rozpylanie; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Szczegóły

Informacja