Wszystkie pola: sputtering process

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
Autorzy:: Tadaszak, K.
Paprocki, J.
Data publikacji:: 2013
Słowa kluczowe:: reactive magnetron sputtering
thin films
modeling of magnetron sputering
reaktywne rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
model procesu rozpylania; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Properties of aluminium oxide thin films deposited in high effective reactive pulsed magnetron sputtering process
Autorzy:: Tadaszak, K.
Nitsch, K.
Piasecki, T.
Posadowski, W. M.
Data publikacji:: 2012
Słowa kluczowe:: aluminiumoxide thin films
metal targets
low deposition rate; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
Autorzy:: Tadaszak, K.
Paprocki, J.
Data publikacji:: 2013
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:: reactive magnetron sputtering
thin films
modeling of magnetron sputering
reaktywne rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
model procesu rozpylania; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Model of high rate reactive pulsed magnetron sputtering
Autorzy:: Tadaszak, K.
Posadowski, W. M.
Data publikacji:: 2011
Słowa kluczowe:: reaktywne rozpylanie magnetronowe
niezbalansowany magnetron
model procesu rozpylania
reactive magnetron sputtering
unbalanced magnetron
model of sputtering process; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Reactive pulsed magnetron sputtering of titanium : influence of process parameters on resistivity and optical properties
Autorzy:: Tadaszak, K.
Data publikacji:: 2013
Słowa kluczowe:: reactive magnetron sputtering
titanium nitride
titanium oxide
reaktywne rozpylanie magnetronowe
azotek tytanu
tlenek tytanu; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: Reactive pulsed magnetron sputtering of titanium : influence of process parameters on resistivity and optical properties
Reaktywne impulsowe rozpylanie tytanu : wpływ parametrów procesu na rezystywność i właściwości optyczne
Autorzy:: Tadaszak, K.
Data publikacji:: 2013
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:: reactive magnetron sputtering
titanium nitride
titanium oxide
reaktywne rozpylanie magnetronowe
azotek tytanu
tlenek tytanu; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Szczegóły

Informacja