Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "atomic layer deposition method" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-5 z 5
Tytuł:
Tlenki dielektryczne wytwarzane metodą osadzania warstw atomowych w niskich temperaturach dla zastosowań w elektronice jako izolatory
Autorzy:
Gierałtowska, S.
Wachnicki, Ł.
Witkowski, B. S.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Data publikacji:
2012
Słowa kluczowe:
tlenki o wysokiej stałej dielektrycznej
warstwy kompozytowe
metoda osadzania warstw atomowych
high-k dielectric oxides
composite layers
Atomic Layer Deposition method
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
    Wyświetlanie 1-5 z 5

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies