- Tytuł:
- The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
- Autorzy:
-
Dobrzanski, L. A.
Szindler, M.
Hajduk, B.
Kotowicz, S. - Data publikacji:
- 2015
- Wydawca:
- Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
- Tematy:
-
thin film
aluminum oxide
atomic layer deposition - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki