- Tytuł:
- Optymalizacja procesu osadzania nanowarstw krzemianów baru metodą MOCVD
- Autorzy:
- Mitoraj, M.
- Data publikacji:
- 2011
- Słowa kluczowe:
-
krzemiany baru
MOCVD
tlenki bramki
materiały typu high-k
barium silicates
metalorganic chemical vapour deposition
gate oxides
high-k materials - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech