Wszystkie pola: Oleszkiewicz, Waldemar

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Oleszkiewicz, Waldemar" wg kryterium: Wszystkie pola

Wyświetlanie 1-6 z 6

Zaznacz

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Growth of the optical layers in a stochastic simulation. Study of a film morphology
Autorzy:: Oleszkiewicz, Waldemar
Współwytwórcy:: Romiszowski, Piotr
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Data publikacji:: 2002
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Wzrost warstw w obecności wiązki jonów (IBAD) : symulacje komputerowe metodą Monte Carlo
Autorzy:: Oleszkiewicz, Waldemar
Współwytwórcy:: Romiszowski, Piotr
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Uniwersytet Warszawski. Wydział Chemii
Data publikacji:: 2005
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Computer simulation studies of roughness of thin films formed in the ion beam assisted deposition (IBAD) process
Autorzy:: Oleszkiewicz, Waldemar
Współwytwórcy:: Romiszowski, Piotr
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Uniwersytet Warszawski. Wydział Chemii
Data publikacji:: 2005
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Badania chropowatości powierzchni warstw optycznych nanoszonych w procesie IBAD : wstępne porównanie symulacji komputerowych z eksperymentem
Współwytwórcy:: Oleszkiewicz, Waldemar
Żukowska, Krystyna
Marendziak, Andrzej
Romiszowski, Piotr
Oleszkiewicz, Ewa
Data publikacji:: 2003
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Reaktywne trawienie jonowe heterostruktur AlGaN/GaN w plazmie Cl2/BCl3
Współwytwórcy:: Paszkiewicz, Bogdan
Wośko, Mateusz
Gryglewicz, Jacek
Szyszka, Adam
Oleszkiewicz, Waldemar
Data publikacji:: 2011
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: Influence of RF ICP PECVD process parameters of diamond - like carbon films on DC bias and optical emission spectra
Współwytwórcy:: Kovač, Jaroslav
Politechnika Wrocławska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki
Oleszkiewicz, Waldemar
Tłaczała, Marek
Gryglewicz, Jan
Markowski, Janusz
Srnanek, Rudolf
Kijaszek, Wojciech
Data publikacji:: 2013
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Wyświetlanie 1-6 z 6

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Wyszukujesz frazę "Oleszkiewicz, Waldemar" wg kryterium: Wszystkie pola