- Tytuł:
-
Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu
Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu = SiCN films deposited by RF magnetron sputtering - Autorzy:
- Stańczyk Beata
- Data publikacji:
- 2011
- Wydawca:
- ITME
- Słowa kluczowe:
-
RF sputtering
SIMS
widmo podczerwieni
dyfrakcja rentgenowska
Elektronika - czasopismo - materiały
widmo optycznej absorpcji
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
Electronic - journal - materials
sputtering
SiCN
x-ray diffraction
IR spectrum
absorption spectrum - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych