- Tytuł:
- Wpływ częstotliwości zasilania na proces rozpylania miedzi za pomocą układu magnetronowego
- Autorzy:
- Wiatrowski, A.
- Data publikacji:
- 2007
- Słowa kluczowe:
-
rozpylanie magnetronowe
zasilanie impulsowe
magnetron sputtering
pulsed power supply
copper - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech