Wszystkie pola: Jaskólska Anna

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Materiały Elektroniczne 1983 nr 2(42)
Badanie zależności kinetycznych procesu polerowania płytek krzemowych
Badanie zależności kinetycznych procesu polerowania płytek krzemowych = The kinetic dependences in the polishing of silicon wafers
Autorzy:: Jaskólska Anna
Współwytwórcy:: Żołek Ewa
Data publikacji:: 1983
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: Electronic - materials
chemical-mechanical polishing
Materiały elektroniczne
polerowanie chemiczno-mechaniczne
Si wafer
Electronic - journal - materials
Elektronika - czasopismo - materiały; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Tendencje technologiczne w produkcji płytek krzemowych = Trends in silicon wafers production
Materiały Elektroniczne 1976 nr 2(14)
Tendencje technologiczne w produkcji płytek krzemowych
Autorzy:: Drzewiecki Paweł
Współwytwórcy:: Jaskólska Anna
Czerwińska Anna
Data publikacji:: 1976
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: Si
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
wafer
płytka
Electronic - journal - materials
Elektronika - czasopismo - materiały; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Podstawy fizjologii wysiłku fizycznego z zarysem fizjologii człowieka
Autorzy:: Jaskólski, Artur Autor
Współwytwórcy:: Jaskólska, Anna (kultura fizyczna) Autor
Data publikacji:: 2005
Wydawca:: Wrocław : Wydawnictwo Akademii Wychowania Fizycznego
Tematy:: Fizjologia człowieka
Wysiłek fizyczny - fizjologia
Wydolność fizyczna - fizjologia
Zjawiska fizjologiczne
Wysiłek fizyczny
Fizjologia; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Academica

Książka

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Zdejmowanie cienkich warstw z płytek krzemowych metodą utleniania anodowego i rozpuszczania utworzonego tlenku = Removal of thin layers from silicon wafersby means of an anodic oxidation and dissolution of the oxides formed
Materiały Elektroniczne 1976 nr 3(15)
Zdejmowanie cienkich warstw z płytek krzemowych metodą utleniania anodowego i rozpuszczania utworzonego tlenku
Autorzy:: Jaskólska Halina
Współwytwórcy:: Waliś Lech
Gołkowska Anna
Data publikacji:: 1976
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego WEMA
Słowa kluczowe:: anodic oxidation
Si
zdejmowanie warstw cienkich
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
removal of thin layers
utolenianie anodowe
Electronic - journal - materials
Elektronika - czasopismo - materiały
dissolution of oxide; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

Szczegóły

Informacja