Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "rf sputtering" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
Otrzymywanie warstw SiCN metodą RF sputteringu
SiCN films deposited by RF magnetron sputtering
Autorzy:
Stańczyk, B.
Jagoda, A.
Dobrzański, L.
Caban, P.
Możdżonek, M.
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
SiCN
sputtering
widmo podczerwieni
widmo optycznej absorpcji
dyfrakcja rentgenowska
SIMS
rf sputtering
absorption spectrum
IR spectrum
X-ray diffraction
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu
Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
Otrzymywanie warstw SiCN metoda RF sputteringu = SiCN films deposited by RF magnetron sputtering
Autorzy:
Stańczyk Beata
Data publikacji:
2011
Wydawca:
ITME
Słowa kluczowe:
RF sputtering
SIMS
widmo podczerwieni
dyfrakcja rentgenowska
Elektronika - czasopismo - materiały
widmo optycznej absorpcji
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
Electronic - journal - materials
sputtering
SiCN
x-ray diffraction
IR spectrum
absorption spectrum
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies