Wszystkie pola: Atomic Layer Deposition method

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Optical and structural characterization of Zinc oxide nanostructures obtained by atomic layer deposition method
Autorzy:: Wachnicki, Ł.
Współwytwórcy:: Gierałtowska, S.
Witkowski, B. S.
Kopalko, K.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Data publikacji:: 2011
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Optical and Structural Characterization of Zinc Oxide Nanostructures Obtained by Atomic Layer Deposition Method
Autorzy:: Wachnicki, Ł.
Witkowski, B.
Gierałtowska, S.
Kopalko, K.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Data publikacji:: 2011-11
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:: 81.07.Bc
82.47.Rs
68.55.-a
81.15.Aa; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Microwave conductivity investigations of AZO films deposited by atomic layer deposition method at a low temperature
Współwytwórcy:: Jaworski, Marek (fizyk). Autor
Godlewski, Marek (1950- ). Autor
Łukasiewicz, Małgorzata (fizyk). Autor
Pietruszka, Rafał. Autor
Wittlin, Aleksander. Autor
Data publikacji:: 2018
Tematy:: Mikrofale
Osadzanie warstw atomowych (ALD)
Cienkie warstwy (technika)
Przewodnictwo elektryczne; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Data publikacji:: 2020
Wydawca:: Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:: thin film
atomic layer deposition
titanium dioxide; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Data publikacji:: 2020
Słowa kluczowe:: thin film
atomic layer deposition
titanium dioxide; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: Effect of heat treatment on the surface morphology and optical properties of the Al2O3 thin film for use in solar cells
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Data publikacji:: 2021
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
Tematy:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: The Al₂O₃/TiO₂ double antireflection coating deposited by ALD method
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Orwat, Justyna
Kulesza-Matlak, Grażyna
Data publikacji:: 2022
Słowa kluczowe:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: Effect of heat treatment on the surface morphology and optical properties of the Al2O3 thin film for use in solar cells
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Data publikacji:: 2021
Słowa kluczowe:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: The Al₂O₃/TiO₂ double antireflection coating deposited by ALD method
Autorzy:: Szindler, Marek
Szindler, Magdalena M.
Orwat, Justyna
Kulesza-Matlak, Grażyna
Data publikacji:: 2022
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
Tematy:: antireflection coating
atomic layer deposition method
solar cells; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: Tlenki dielektryczne wytwarzane metodą osadzania warstw atomowych w niskich temperaturach dla zastosowań w elektronice jako izolatory
Autorzy:: Gierałtowska, S.
Wachnicki, Ł.
Witkowski, B. S.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Data publikacji:: 2012
Słowa kluczowe:: tlenki o wysokiej stałej dielektrycznej
warstwy kompozytowe
metoda osadzania warstw atomowych
high-k dielectric oxides
composite layers
Atomic Layer Deposition method; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę "Atomic Layer Deposition method" wg kryterium: Wszystkie pola