Wszystkie pola: etching parameters

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Photochemical machining of engineering materials
Autorzy:: Cakir, O.
Data publikacji:: 2007
Słowa kluczowe:: obróbka fotochemiczna
wytrawianie
parametry wytrawiania
materiał inżynierski
photochemical machining
etchants
etching parameters
engineering material; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Wpływ trawienia plazmą na wybrane parametry cienkich warstw CdTe i SnO2 dla zastosowań fotowoltaicznych
Autorzy:: Lichograj, R.
Olchowik, J. M.
Lichograj, P.
Czernik, S.
Data publikacji:: 2015
Słowa kluczowe:: tellurek kadmu
tlenek cyny
cienka warstwa
napylanie magnetronowe
rozpylanie jonowe
trawienie plazmowe
modyfikacja powierzchni
ogniwo fotowoltaiczne
cadmium telluride
tin oxide
thin layer
magnetron sputtering
ion sputtering
plasma etching
surface modification
photovoltaic cell; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Materiały Elektroniczne 1981 nr 1/2(33/34)
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali = The investigations of some parameters of steel etching process
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali
Autorzy:: Blinkow Wiktor
Współwytwórcy:: Mrówczyński Jacek
Data publikacji:: 1982
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: stal
Electronic - materials
etching process
Materiały elektroniczne
steel
Electronic - journal - materials
trawienie
Elektronika - czasopismo - materiały; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: Influence of porous silicon on parameters of silicon solar cells
Autorzy:: Lipiński, M.
Panek, P.
Bielańska, E.
Węgłowska, J.
Czternastek, H.
Data publikacji:: 2000
Słowa kluczowe:: porous silicon
stain etching
antireflection coating; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: Configuration of the parameters for scanner-based track detector evaluation system
Autorzy:: Csordás, Anita
Tóth-Bodrogi, Edit
Kovács, Tibor
Data publikacji:: 2020
Słowa kluczowe:: background track density
CR-39
etching conditions
indoor radon
sensitivity for radon; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: The Welded Joints Structure of the Inconel 617 Alloy Designed for High Temperature Operation in Supercritical Parameters Boilers
Autorzy:: Adamiec, J.
Konieczna, N.
Data publikacji:: 2020
Słowa kluczowe:: Inconel 617
nickel alloys
welded joint
macrostructure
microstructure
etching
TIG method; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: Configuration of the parameters for scanner-based track detector evaluation system
Autorzy:: Csordás, Anita
Tóth-Bodrogi, Edit
Kovács, Tibor
Data publikacji:: 2020
Wydawca:: Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:: background track density
CR-39
etching conditions
indoor radon
sensitivity for radon; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: Badanie wpływu wybranych parametrów cyklicznego procesu mokrego trawienia chemicznego epitaksjalnych warstw InAs
Autorzy:: Boguski, Jacek
Józwowicz, jakub
Nyga, Małgorzta
Złotnik, Sebastian
Wróbel, Jarosław
Data publikacji:: 2022
Słowa kluczowe:: mokre trawienie chemiczne
chropowatość
głębokość trawienia
warstwa epitaksjalna InAs
wet chemical etching
etch depth
roughness
InAs epitaxial layers; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: The Welded Joints Structure of the Inconel 617 Alloy Designed for High Temperature Operation in Supercritical Parameters Boilers
Autorzy:: Adamiec, J.
Konieczna, N.
Data publikacji:: 2020
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:: Inconel 617
nickel alloys
welded joint
macrostructure
microstructure
etching
TIG method; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: Analysis of the Dispersion of Electrical Parameters and Characteristics of FinFET Devices
Autorzy:: Malinowski, A.
Tomaszewski, D.
Łukasiak, L.
Jakubowski, A.
Sekine, M.
Hori, M.
Korwin-Pawlowski, M. L.
Data publikacji:: 2009
Słowa kluczowe:: FinFET
line edge roughness
parameter variability
plasma etching
technology computer aided design (TCAD); Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11.

Tytuł:: Time efficient texturization of multicrystalline silicon in the HF/HNO3 solutions and its effect on optoelectronic parameters of solar cells
Autorzy:: Kulesza, G.
Panek, P.
Zięba, P.
Data publikacji:: 2014
Słowa kluczowe:: fotowoltaika
konwersja fotowoltaiczna
ogniwo słoneczne
texturization
acidic etching
multicrystalline silicon
silicon solar cell
photovoltaics; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12.

Tytuł:: Analysis of the Dispersion of Electrical Parameters and Characteristics of FinFET Devices
Autorzy:: Malinowski, A.
Tomaszewski, D.
Łukasiak, L.
Jakubowski, A.
Sekine, M.
Hori, M.
Korwin-Pawlowski, M. L.
Data publikacji:: 2009
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: FinFET
line edge roughness
parameter variability
plasma etching
technology computer aided design (TCAD); Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę "etching parameters" wg kryterium: Wszystkie pola