- Tytuł:
- Properties of~Rf Plasma Nitrided Silicon Thin Films at Different Rf Plasma Processing Powers
- Autorzy:
-
Mohamed, S.
Raaif, M.
Abd El-Rahman, A.
Shaaban, E. - Data publikacji:
- 2011-09
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
- Tematy:
-
81.15.Dj
61.05.cp
73.61.-r
78.66.-w - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki