- Tytuł:
- Kinetyka wzrostu warstw w procesie RFCVD
- Autorzy:
-
Jonas, S.
Jaglarz, J.
Kyzioł, K.
Januś, M.
Murawska, E. - Data publikacji:
- 2014
- Słowa kluczowe:
-
metoda RFCVD
warstwy Si3N4
a-C:H
szybkość wzrostu
centra aktywne
RF CVD method
layers Si3N4
growth rate
active centers - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech