- Tytuł:
- Wzrost warstw typu a-C:N:H w warunkach plazmochemicznych
- Autorzy:
-
Kyzioł, K.
Jonas, S.
Tkacz-Śmiech, K.
Czyżewska, A. - Data publikacji:
- 2006
- Słowa kluczowe:
-
warstwy typu a-C:N:H
parametry osadzania w warunkach procesu RF CVD
wpływ temperatury na proces osadzania
optymalne warunki wzrostu - Pokaż więcej
- Dostawca treści:
- BazTech
Artykuł