Wszystkie pola: ultra-thin silicon

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "ultra-thin silicon" wg kryterium: Wszystkie pola

Wyświetlanie 1-4 z 4

Zaznacz

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Ultra-shallow nitrogen plasma implantation for ultra-thin silicon oxynitride (SiOxNy) layer formation
Współwytwórcy:: Kudła, Andrzej
Beck, Romuald B.
Bieniek, Tomasz
Jakubowski, Andrzej
Data publikacji:: 2005
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Comparison of composition of ultra-thin silicon oxynitride layers fabricated by PECVD and ultrashallow rf plasma ion implantation
Data publikacji:: 2007
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: The influence of annealing (900?C) of ultra-thin PECVD silicon oxynitride layers
Współwytwórcy:: Mroczyński, Robert
Beck, Romuald B.
Konarski, Piotr
Głuszko, Grzegorz
Ćwil, Michał
Jakubowski, Andrzej
Data publikacji:: 2007
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
Współwytwórcy:: Kalisz, Małgorzata
Ćwil, Michał
Beck, Romuald B.
Barcz, Adam
Data publikacji:: 2007
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Wyświetlanie 1-4 z 4

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies

Informacja

Wyszukujesz frazę "ultra-thin silicon" wg kryterium: Wszystkie pola