Wszystkie pola: etching process

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Application of argon plasma sheet in the etching process of calcium carbonate crystals for AFM tests
Autorzy:: Moczała, M.
Karpińska, M.
Poznar, M.
Dobryszycki, P.
Sikora, A.
Data publikacji:: 2018
Słowa kluczowe:: atomic force microscopy
calcium carbonate crystals
microwave plasma
plasma sheet; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Halloysite-based system for controlled delivery of clindamycin phosphate
Autorzy:: Karewicz, Anna
Machowska, Adrianna
Klara, Joanna
Data publikacji:: 2020
Słowa kluczowe:: halloysite
nanotubes
etching process
haloizyt
nanorurki
proces trawienia; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Halloysite-based system for controlled delivery of clindamycin phosphate
Autorzy:: Karewicz, Anna
Machowska, Adrianna
Klara, Joanna
Data publikacji:: 2020
Wydawca:: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:: halloysite
nanotubes
etching process
haloizyt
nanorurki
proces trawienia; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: The use of one-component plasma in the ICP-RIE etching process of periodic structures for applications in photodetector arrays
Autorzy:: Różycka, Marta
Jasik, Agata
Kozłowski, Paweł
Bracha, Krzysztof
Ratajczak, Jacek
Wierzbicka-Miernik, Anna
Data publikacji:: 2023
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czasopisma i Monografie PAN
Tematy:: ICP-RIE
dry etching
type II InAs/GaSb superlattice
BCl3; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: The creation of zone of pure iron as the effect of denitriding of iron nitrides [epsilon]+[gamma] layer in the ion etching process
Autorzy:: Smolik, Jerzy
Współwytwórcy:: Michalski, Jerzy. Rec.
Data publikacji:: 2009
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: The etching process of the surface of Ti6Al7Nb alloy in SF6 plasma and its influence on the selected properties
Autorzy:: Borowska, Adrianna
Płusa, Natalia
Jędrzejczak, Anna
Data publikacji:: 2021
Wydawca:: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: The use of one-component plasma in the ICP-RIE etching process of periodic structures for applications in photodetector arrays
Autorzy:: Różycka, Marta
Jasik, Agata
Kozłowski, Paweł
Bracha, Krzysztof
Ratajczak, Jacek
Wierzbicka-Miernik, Anna
Data publikacji:: 2023
Słowa kluczowe:: ICP-RIE
dry etching
type II InAs/GaSb superlattice
BCl3; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: The creation of zone of pure iron as the effect of denitriding of iron nitrides [epsilon]+[gamma]' layer in the ion etching process
Autorzy:: Smolik, J.
Data publikacji:: 2009
Słowa kluczowe:: warstwa azotowana
azotowanie jarzeniowe
trawienie jonowe
nitrided layer
ion nitriding
ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: Materiały Elektroniczne 1981 nr 1/2(33/34)
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali = The investigations of some parameters of steel etching process
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali
Autorzy:: Blinkow Wiktor
Współwytwórcy:: Mrówczyński Jacek
Data publikacji:: 1982
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: stal
Electronic - materials
etching process
Materiały elektroniczne
steel
Electronic - journal - materials
trawienie
Elektronika - czasopismo - materiały; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: The etching process of the surface of Ti6Al7Nb alloy in SF6 plasma and its influence on the selected properties
Autorzy:: Borowska, Adrianna
Płusa, Natalia
Jędrzejczak, Anna
Data publikacji:: 2021
Słowa kluczowe:: Ti6Al7Nb
properties
plasma
właściwości
plazma; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę "etching process" wg kryterium: Wszystkie pola