Wszystkie pola: etching process

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Application of argon plasma sheet in the etching process of calcium carbonate crystals for AFM tests
Autorzy:: Moczała, M.
Karpińska, M.
Poznar, M.
Dobryszycki, P.
Sikora, A.
Data publikacji:: 2018
Słowa kluczowe:: atomic force microscopy
calcium carbonate crystals
microwave plasma
plasma sheet; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: Halloysite-based system for controlled delivery of clindamycin phosphate
Autorzy:: Karewicz, Anna
Machowska, Adrianna
Klara, Joanna
Data publikacji:: 2020
Słowa kluczowe:: halloysite
nanotubes
etching process
haloizyt
nanorurki
proces trawienia; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 3.

Tytuł:: Halloysite-based system for controlled delivery of clindamycin phosphate
Autorzy:: Karewicz, Anna
Machowska, Adrianna
Klara, Joanna
Data publikacji:: 2020
Wydawca:: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Tematy:: halloysite
nanotubes
etching process
haloizyt
nanorurki
proces trawienia; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 4.

Tytuł:: The use of one-component plasma in the ICP-RIE etching process of periodic structures for applications in photodetector arrays
Autorzy:: Różycka, Marta
Jasik, Agata
Kozłowski, Paweł
Bracha, Krzysztof
Ratajczak, Jacek
Wierzbicka-Miernik, Anna
Data publikacji:: 2023
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czasopisma i Monografie PAN
Tematy:: ICP-RIE
dry etching
type II InAs/GaSb superlattice
BCl3; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 5.

Tytuł:: The creation of zone of pure iron as the effect of denitriding of iron nitrides [epsilon]+[gamma] layer in the ion etching process
Autorzy:: Smolik, Jerzy
Współwytwórcy:: Michalski, Jerzy. Rec.
Data publikacji:: 2009
Dostawca treści:: Academica

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 6.

Tytuł:: The etching process of the surface of Ti6Al7Nb alloy in SF6 plasma and its influence on the selected properties
Autorzy:: Borowska, Adrianna
Płusa, Natalia
Jędrzejczak, Anna
Data publikacji:: 2021
Wydawca:: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Polskie Towarzystwo Biominerałów
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 7.

Tytuł:: The use of one-component plasma in the ICP-RIE etching process of periodic structures for applications in photodetector arrays
Autorzy:: Różycka, Marta
Jasik, Agata
Kozłowski, Paweł
Bracha, Krzysztof
Ratajczak, Jacek
Wierzbicka-Miernik, Anna
Data publikacji:: 2023
Słowa kluczowe:: ICP-RIE
dry etching
type II InAs/GaSb superlattice
BCl3; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 8.

Tytuł:: The creation of zone of pure iron as the effect of denitriding of iron nitrides [epsilon]+[gamma]' layer in the ion etching process
Autorzy:: Smolik, J.
Data publikacji:: 2009
Słowa kluczowe:: warstwa azotowana
azotowanie jarzeniowe
trawienie jonowe
nitrided layer
ion nitriding
ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 9.

Tytuł:: Materiały Elektroniczne 1981 nr 1/2(33/34)
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali = The investigations of some parameters of steel etching process
Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali
Autorzy:: Blinkow Wiktor
Współwytwórcy:: Mrówczyński Jacek
Data publikacji:: 1982
Wydawca:: Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:: stal
Electronic - materials
etching process
Materiały elektroniczne
steel
Electronic - journal - materials
trawienie
Elektronika - czasopismo - materiały; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 10.

Tytuł:: The etching process of the surface of Ti6Al7Nb alloy in SF6 plasma and its influence on the selected properties
Autorzy:: Borowska, Adrianna
Płusa, Natalia
Jędrzejczak, Anna
Data publikacji:: 2021
Słowa kluczowe:: Ti6Al7Nb
properties
plasma
właściwości
plazma; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 11.

Tytuł:: Powłoki funkcyjne na szkle sodowo-wapniowo-krzemianowym otrzymane na drodze trawienia chemicznego
Autorzy:: Zontek-Wilkowska, J.
Wasylak, J.
Data publikacji:: 2014
Słowa kluczowe:: powłoki funkcyjne
powierzchnia szkła
trawienie chemiczne
statyczny kąt zwilżania
functional coatings
glass surface
wet etching process
static contact angle; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 12.

Tytuł:: The creation of zone of pure iron as the effect of denitriding of iron nitrides [epsilon]+[gamma] layer in the ion etching process
Powstawanie warstwy żelaza jako efekt odazotowania warstwy azotków żelaza [epsilon]+[gamma] w procesie trawienia jonowego
Autorzy:: Smolik, J.
Data publikacji:: 2009
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: warstwa azotowana
azotowanie jarzeniowe
trawienie jonowe
nitrided layer
ion nitriding
ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 13.

Tytuł:: Badanie wpływu wybranych parametrów cyklicznego procesu mokrego trawienia chemicznego epitaksjalnych warstw InAs
Autorzy:: Boguski, Jacek
Józwowicz, jakub
Nyga, Małgorzta
Złotnik, Sebastian
Wróbel, Jarosław
Data publikacji:: 2022
Słowa kluczowe:: mokre trawienie chemiczne
chropowatość
głębokość trawienia
warstwa epitaksjalna InAs
wet chemical etching
etch depth
roughness
InAs epitaxial layers; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 14.

Tytuł:: Analiza wpływu trawienia powierzchni w procesie sputteringu magnetronowego
Etching effect analysis in the process of magnetron sputtering
Autorzy:: Grudniewski, T.
Chodyka, M.
Lubańska, Z.
Data publikacji:: 2015
Wydawca:: Instytut Naukowo-Wydawniczy TTS
Tematy:: trawienie powierzchni
sputtering magnetronowy
surface etching
sputtering magnetron; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 15.

Tytuł:: Analiza wpływu trawienia powierzchni w procesie sputteringu magnetronowego
Autorzy:: Grudniewski, T.
Chodyka, M.
Lubańska, Z.
Data publikacji:: 2015
Słowa kluczowe:: trawienie powierzchni
sputtering magnetronowy
surface etching
sputtering magnetron; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 16.

Tytuł:: Innowacyjna, ekologiczna metoda regeneracji kwaśnych roztworów chlorku miedzi stosowanych w procesie trawienia obwodów drukowanych - efekt projektu zrealizowanego w ramach Programu Innowacyjna Gospodarka
Autorzy:: Kopyto, D.
Data publikacji:: 2018
Słowa kluczowe:: obwody drukowane
regeneracja roztworów trawiących
proces utleniania
reaktor
printed circuits
etching solutions regeneration
oxidation process
reactor; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 17.

Tytuł:: The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
Autorzy:: Kalisz, M.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Data publikacji:: 2010
Słowa kluczowe:: capacitance-voltage characteristics
current-voltage characteristics
fluorine plasma
high temperature annealing process
radio frequency reactive ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 18.

Tytuł:: The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
Autorzy:: Kalisz, M.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Data publikacji:: 2010
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: capacitance-voltage characteristics
current-voltage characteristics
fluorine plasma
high temperature annealing process
radio frequency reactive ion etching; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 19.

Tytuł:: Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu
Bosch process for silicon plasma etching
Autorzy:: Góra, K.
Kozłowski, A.
Data publikacji:: 2011
Wydawca:: Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:: proces Boscha
ICP
trawienie plazmowe krzemu
współczynnik kształtu
Bosch process
plasma etching
high aspect ratio
silicon etched profile; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 20.

Tytuł:: Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu
Autorzy:: Góra, K.
Kozłowski, A.
Data publikacji:: 2011
Słowa kluczowe:: proces Boscha
ICP
trawienie plazmowe krzemu
współczynnik kształtu
Bosch process
plasma etching
high aspect ratio
silicon etched profile; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 21.

Tytuł:: Trawienie i wspomaganie jonowe w procesie PA PVDArc - źródło jonów AIDA
Autorzy:: Betiuk, M.
Szudrowicz, M.
Data publikacji:: 2005
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 22.

Tytuł:: Gate dielectrics: process integration issues and electrical properties
Autorzy:: Schwalke, U.
Data publikacji:: 2005
Słowa kluczowe:: high-k dielectrics
CMOS
Pr2O3
process integration
resist removal
wet chemical cleaning
wet chemical etching
RIE; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 23.

Tytuł:: Gate dielectrics: process integration issues and electrical properties
Autorzy:: Schwalke, U.
Data publikacji:: 2005
Wydawca:: Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:: high-k dielectrics
CMOS
Pr2O3
process integration
resist removal
wet chemical cleaning
wet chemical etching
RIE; Pokaż więcej
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 24.

Tytuł:: Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu = Bosch process for silicon plasma etching
Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu
Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
Autorzy:: Góra Krzysztof
Współwytwórcy:: Kozłowski Andrzej
Data publikacji:: 2011
Wydawca:: ITME
Słowa kluczowe:: Bosch process
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
współczynnik kształtu
plasma etching
trawienie plazmowe krzemu
high aspect ratio
Electronic - journal - materials
proces Boscha
Elektronika - czasopismo - materiały
ICP OES; Pokaż więcej
Dostawca treści:: RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych

Książka

na półce

Szczegóły

Skocz do pozycji: 25.

Tytuł:: Badanie formowania wysokoprądowych obwodów drukowanych z zastosowaniem techniki laserowej
Autorzy:: Serzysko, T.
Borecki, J.
Grzesiak, W.
Data publikacji:: 2017
Słowa kluczowe:: ablacja laserowa
strukturyzacja
mozaika obwodu drukowanego
trawienie
fotochemigrafia
laser ablation
structuring process
printed circuit board mosaic
etching
photochemistry; Pokaż więcej
Dostawca treści:: BazTech

Artykuł

na półce

Szczegóły

Informacja

Wyszukujesz frazę "etching process" wg kryterium: Wszystkie pola