Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "oxide distribution" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-56 z 56
Tytuł:
Rozmieszczenie dodatków tlenkowych w tworzywie warystorowym na bazie ZnO
Materiały Elektroniczne 1987 nr 1(57)
Rozmieszczenie dodatków tlenkowych w tworzywie warystorowym na bazie ZnO = Oxide addittions distribution in ZrO based varistor ceramics
Autorzy:
Hozer Leszek
Współwytwórcy:
Kozłowska Halina
Data publikacji:
1987
Wydawca:
Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
Słowa kluczowe:
Elektronika - czasopismo - materiały
Electronic - journal - material
Electronic materials
ZnO
Materiały elektroniczne
oxide distribution
varistor ceramic
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Ocena wpływu nanocząstek tlenku żelaza na rozmieszczenie mezenchymalnych komórek macierzystych hodowanych w obecności statycznego pola magnetycznego
Autorzy:
Marędziak, M.
Śmieszek, A.
Basińska, K.
Kornicka, K.
Data publikacji:
2015
Słowa kluczowe:
nanotechnologia
nanocząstki
tlenek żelaza
mezenchymalne komórki macierzyste
pole magnetyczne
nanotechnology
iron oxide
nanoparticles
mesenchymal stem cells
static magnetic field
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Analiza efektu przełączania rezystancji w strukturach cienkowarstwowych z różnym profilem składu materiałowego
Autorzy:
Kotwica, Tomasz
Domaradzki, Jarosław
Kaczmarek, Danuta
Rogala, Jacek
Strzyżewski, Maciej
Data publikacji:
2019
Słowa kluczowe:
cienka warstwa
tlenek miedzi
tlenek tytanu
rozkład gradientowy
właściwości elektryczne
thin film
copper oxide
titanium oxide
gradient distribution
electrical properties
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Distribution of potential barrier height local values at Al-SiO₂ and Si-SiO₂ interfaces of the metal-oxide-semiconductor (MOS) structures
Autorzy:
Piskorski, K.
Przewlocki, H. M.
Data publikacji:
2004
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Analysis of the influence of unequal current distribution on the heating of parallel connected LV MOV surge arrester
Autorzy:
Szafraniak, Bartłomiej
Zydroń, Paweł
Fuśnik, Łukasz
Data publikacji:
2020
Słowa kluczowe:
metal-oxide varistors
surge arrester
heating
parallel working
unequal current distribution
warystor tlenkowy
ogranicznik przepięć
nagrzewanie
praca równoległa
nierównomierny rozpływ prądu
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Artykuł
Tytuł:
Uwarunkowania występowania i rozmieszczenia perspektywicznych nagromadzeń tlenkowych skupień żelazowo-manganowych
Conditions of the occurrence and distribution prospective ferro-manganese oxide deposits
Autorzy:
Zawadzki, D.
Kotliński, R. A.
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Wydawnictwo AGH
Tematy:
tlenkowe skupienia żelazowo-manganowe
konkrecje polimetaliczne
naskorupienia kobaltonośne
złoża perspektywiczne
manganese oxide concentration
polymetallic nodules
cobalt-rich ferromanganese crust
most promising ore fields
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Uwarunkowania występowania i rozmieszczenia perspektywicznych nagromadzeń tlenkowych skupień żelazowo-manganowych
Autorzy:
Zawadzki, D.
Kotliński, R. A.
Data publikacji:
2011
Słowa kluczowe:
tlenkowe skupienia żelazowo-manganowe
konkrecje polimetaliczne
naskorupienia kobaltonośne
złoża perspektywiczne
manganese oxide concentration
polymetallic nodules
cobalt-rich ferromanganese crust
most promising ore fields
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Synthesis of inorganic oxide composites with the use of postgalvanic waste solutions of copper(II) sulfate
Autorzy:
Modrzejewska-Sikorska, A.
Ciesielczyk, F.
Jesionowski, T.
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie. Wydawnictwo Uczelniane ZUT w Szczecinie
Tematy:
powierzchnia
tlenek złożonych CuO.SiO2
rozkład wielkości cząsteczek
powierzchnia właściwa
właściwości kalorymetryczne
opady
oxide composite CuO.SiO2
waste solution of copper(II) sulfate
precipitation
particle size distribution
surface area
colorimetric characteristics
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Artykuł
Tytuł:
Physico-chemical and dispersive characterisation of magnesium oxides precipitated from the Mg(NO3)2 and MgSO4 solutions
Autorzy:
Pilarska, A.
Paukszta, D.
Ciesielczyk, F.
Jesionowsk, T.
Data publikacji:
2010
Słowa kluczowe:
tlenek magnezu
wodorotlenek magnezu
osady
rozkład wielkości cząsteczek i morfologii powierzchni
właściwości adsorpcyjne
magnesium oxide
magnesium hydroxide
precipitation
Particle size distribution and surface morphology
adsorptive properties
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Preparation of metal oxide-water nanofluids by the two-step method
Otrzymywanie nanopłynów tlenków metali w wodzie metodą dwustopniową
Autorzy:
Drzazga, M.
Lemanowicz, M.
Dzido, G.
Gierczycki, A.
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
Tematy:
nanopłyn
rozkład ziarnowy
potencjał zeta
nanofluid
particle size distribution
PSD
zeta potential
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structure of aluminosilicate-supported nickel and iron oxides nanocomposites in gaseous and aqueous media
Autorzy:
Goncharuk, Olena
Dyachenko, Alla
Skwarek, Ewa
Ischenko, Olena
Andriyko, Lyudmila
Borysenko, Mykola
Sulym, Iryna
Sternik, Dariusz
Kowalska, Klaudia
Marynin, Andrii
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
oxide nanocomposites
NiO/FexOy
textural properties
particle size distribution
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
Autorzy:
Kalisz, M.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
capacitance-voltage characteristics
current-voltage characteristics
fluorine plasma
high temperature annealing process
radio frequency reactive ion etching
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Identification and distribution of neuronal nitric oxide synthase and neurochemical markers in the neuroepithelial cells of the gill and the skin in the giant mudskipper, Periophthalmodon schlosseri
Autorzy:
Ip, Yuen Kwong
Alesci, Alessio
Pergolizzi, Simona
Lauriano, Eugenia Rita
Icardo, Jose M.
Kuciel, Michał
Capillo, Gioele
Ishimatsu, Atsushi
Zaccone, Giacomo
Data publikacji:
2017
Dostawca treści:
Repozytorium Uniwersytetu Jagiellońskiego
Artykuł
Tytuł:
Physico-chemical and dispersive characterisation of magnesium oxides precipitated from the Mg(NO3)2 and MgSO4 solutions
Autorzy:
Pilarska, A.
Paukszta, D.
Ciesielczyk, F.
Jesionowsk, T.
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie. Wydawnictwo Uczelniane ZUT w Szczecinie
Tematy:
tlenek magnezu
wodorotlenek magnezu
osady
rozkład wielkości cząsteczek i morfologii powierzchni
właściwości adsorpcyjne
magnesium oxide
magnesium hydroxide
precipitation
Particle size distribution and surface morphology
adsorptive properties
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Ekonomiczny model badań niezawodnościowych goi
Economic design for goi reliability tests
Autorzy:
Yang, S. F.
Chien, K. W-T
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Polskie Naukowo-Techniczne Towarzystwo Eksploatacyjne PAN
Tematy:
minimalny rozmiar próbki
badanie V-Ramp
GOI (Nienaruszony Stan Tlenku Bramkowego)
gęstość defektów
próbkowanie losowe
rozkład dwumianowy
granice przedziału ufności
minimum sample size
V-Ramp test
GOI (Gate Oxide Integrity)
defect density
random sampling
binomial distribution
confidence bounds
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
Autorzy:
Kalisz, M.
Głuszko, G.
Beck, R. B.
Data publikacji:
2010
Słowa kluczowe:
capacitance-voltage characteristics
current-voltage characteristics
fluorine plasma
high temperature annealing process
radio frequency reactive ion etching
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Wpływ przestrzennego rozkładu temperatury podczas krystalizacji metodą Czochralskiego na wielkość naprężeń w wybranych kryształach tlenkowych . Praca doktorska = Influence of spatial temperature distribution on the value of stress in Czochralski grown some oxide crystals
Wpływ przestrzennego rozkładu temperatury podczas krystalizacji metodą Czochralskiego na wielkość naprężeń w wybranych kryształach tlenkowych . Praca doktorska
Autorzy:
Gałązka Zbigniew
Współwytwórcy:
Łukasiewicz, T. Promotor.
Data publikacji:
1997
Wydawca:
ITME
Słowa kluczowe:
Elektronika - materiały
single crystal
Czochralski method
naprężenie
Materiały elektroniczne
Electronic materials
stress-induced birefringence
metoda Czochralskiego
kryształ tlenkowy
Electronic - material
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
    Wyświetlanie 1-56 z 56

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies