Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "sputtering process" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-52 z 52
Tytuł:
Defect-mediated sputtering process of boron nitride during high incident angle low-energy ion bombardment
Autorzy:
Maciążek, Dawid
Kozdra, Sylwia
Baranowski, Jacek M.
Wójcik, Adrianna
Postawa, Zbigniew
Caban, Piotr A.
Michałowski, Paweł Piotr
Data publikacji:
2021
Słowa kluczowe:
secondary ion mass spectrometry
boron nitride
2D materials
molecular dynamics
sputtering
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Repozytorium Uniwersytetu Jagiellońskiego
Artykuł
Tytuł:
Influence of projectile chemistry on the sputtering process of the model polymer thin film
Wpływ chemii pocisku na proces rozpylania modelowej warstwy polimerowej
Autorzy:
Sęk, Katarzyna
Słowa kluczowe:
spektrometria mas jonów wtórnych, SIMS, mikroskopia sił atomowych, AFM, nanotechnologia, rozpylanie jonowe, rozpylanie cienkich warstw, polimery
secondary ion mass spectrometry, SIMS, atomic force microscopy, AFM, nanotechnology, ion sputtering, sputtering of thin films, polymers
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Repozytorium Uniwersytetu Jagiellońskiego
Inne
Tytuł:
High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Tadaszak, K.
Paprocki, J.
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
reactive magnetron sputtering
thin films
modeling of magnetron sputering
reaktywne rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
model procesu rozpylania
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Investigation of the sputtering process of two-dimensional samples made of hexagonal boron nitride with C60 projectiles
Zbadanie procesu rozpylania dwuwymiarowych materiałów wykonanych z heksagonalnego azotku boru pociskami C60
Autorzy:
Kryshtal, Pavlo
Słowa kluczowe:
SIMS, Sputtering, Organic layer, Graphene, Hexagonal boron nitride, C60 projectile, Simulation, Organic particles, LAMMPS.
SIMS, Rozpylanie, Warstwa organiczna, Graphene, Heksagonalny azotek boru, Pocisk C60, Symulacja, Cząstki organiczne, LAMMPS.
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Repozytorium Uniwersytetu Jagiellońskiego
Inne
Tytuł:
Badania nad technologią otrzymywania cienkich warstw emitera metodą rozpylania magnetronowego dla zastosowań w ogniwach CIGS
Research on the technology of obtaining thin layers of emitter in CIGS photovoltaic cells by using magnetron sputtering process
Autorzy:
Pietraszek, J.
Gułkowski, S.
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Politechnika Rzeszowska im. Ignacego Łukasiewicza. Oficyna Wydawnicza
Tematy:
CIGS
CdS
warstwa buforowa
ogniwa fotowoltaiczne
kąpiel chemiczna
CBD
rozpylanie magnetronowe
ogniwa cienkowarstwowe
buffer layer
photovoltaic cells
chemical bath deposition
magnetron sputtering
thin film cell
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Badania nad technologią otrzymywania cienkich warstw emitera metodą rozpylania magnetronowego dla zastosowań w ogniwach CIGS
Autorzy:
Pietraszek, J.
Gułkowski, S.
Data publikacji:
2017
Słowa kluczowe:
CIGS
CdS
warstwa buforowa
ogniwa fotowoltaiczne
kąpiel chemiczna
CBD
rozpylanie magnetronowe
ogniwa cienkowarstwowe
buffer layer
photovoltaic cells
chemical bath deposition
magnetron sputtering
thin film cell
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Reactive pulsed magnetron sputtering of titanium : influence of process parameters on resistivity and optical properties
Autorzy:
Tadaszak, Katarzyna
Data publikacji:
2013
Dostawca treści:
Academica
Artykuł
Tytuł:
Reactive pulsed magnetron sputtering of titanium : influence of process parameters on resistivity and optical properties
Reaktywne impulsowe rozpylanie tytanu : wpływ parametrów procesu na rezystywność i właściwości optyczne
Autorzy:
Tadaszak, K.
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
reactive magnetron sputtering
titanium nitride
titanium oxide
reaktywne rozpylanie magnetronowe
azotek tytanu
tlenek tytanu
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Analiza własności warstw CdS w zależności od parametrów procesu wytwarzania z wykorzystaniem napylania plazmowego
Autorzy:
Grudniewski, T.
Czernik, S.
Lubańska, Z.
Chodyka, M.
Nitychoruk, J.
Data publikacji:
2016
Słowa kluczowe:
ogniwo fotowoltaiczne
modyfikacja
topografia
warstwa
wydajność kwantowa
nanoszenie warstw
photovoltaic cell
layer
topography
modification
quantum efficiency
thin layer
creation
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Effect of oxygen nonstoichiomery of ceramic targets on deposition process of TiO2 by dc magnetron sputtering
Autorzy:
Tomaszewski, Henryk
Data publikacji:
2003
Dostawca treści:
Academica
Artykuł
Tytuł:
Materiały Elektroniczne 2003 T.31 nr 1/2
Effect of oxygen nonstoichiometry of ceramic targets on deposition process of TiO2 by DC magnetron sputtering
Autorzy:
Tomaszewski Henryk
Data publikacji:
2003
Wydawca:
ITME
Słowa kluczowe:
TiO2
magnetron sputtering
Electronic - materials
Materiały elektroniczne
rozpylanie magnetronowe
Electronic - journal - materials
Elektronika - czasopismo - materiały
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka
Tytuł:
Comparison of Textile Resistive Humidity Sensors Made by Sputtering, Printing and Embroidery Techniques
Tekstylny rezystancyjny czujnik wilgotności wykonany techniką napylania, drukowania i haftowania
Autorzy:
Frydrysiak, Michał
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Biopolimerów i Włókien Chemicznych
Tematy:
textile
sensor
humidity
intelligent material
PVD process
printing process
embroidery
tekstylia
czujnik
wilgotność
materiał inteligentny
proces PVD
proces drukowania
haftowanie
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Simulation of long-lived plasma process, created by the impulse discharge in droplet environment
Symulacja procesu plazmy długotrwałej wytworzonej przez wyładowanie impulsowe w otoczeniu mgły
Autorzy:
Olszewski, S.
Wójcik, W.
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
iskra
kropla
plazma
napylanie ultradźwiękowe
spark
droplet
plasma
ultrasound sputtering
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Właściwości tribologiczne ślizgowych skojarzeń tarciowych cienkich powłok a-C:H oraz W-C:H ze stalą i ceramiką
Autorzy:
Czyżniewski, A.
Data publikacji:
2010
Słowa kluczowe:
cienkie powłoki na bazie węgla
rozpylanie magnetronowe
właściwości tribologiczne
produkty zużycia
tribologiczna warstwa przejściowa
proces tarcia
thin carbon based coatings
magnetron sputtering
tribolgical properties
wear products
tribological interlayer
friction process
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Comparison of the Parameters of Textile Antennas Manufactured Using Three Techniques: Magnetron Sputtering, Ink-Jet Printing and Embroidery
Autorzy:
Nowak, Iwona
Januszkiewicz, Łukasz
Krucińska, Izabella
Data publikacji:
2024
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Biopolimerów i Włókien Chemicznych
Tematy:
textile antenna
PVD process
ink-jet printing
embroidery
wearable antenna
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-52 z 52

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies