Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "chemical vapor deposition method" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-5 z 5
Tytuł:
Influence of hydrogen volumetric flow rate on temperature distribution in CVD reactor based on epi-growth of SiC
Autorzy:
Skibinski, J.
Wejrzanowski, T.
Teklinska, D.
Kurzydlowski, K. J.
Data publikacji:
2015
Słowa kluczowe:
Finite Volume Method
epitaxial growth
chemical vapor deposition
CVD
silicon carbide
metoda objętości skończonych
wzrost epitaksjalny
chemiczne osadzanie z fazy gazowej
węglik krzemu
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
    Wyświetlanie 1-5 z 5

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies