Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Biblioteka  Akademii Nauk Stosowanych w Gnieźnie Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaBiblioteka  Akademii Nauk Stosowanych w Gnieźnie

Wyszukujesz frazę "remote plasma CVD" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Cienkie warstwy węglikoazotku krzemu wytwarzane z prekursora krzemoorganicznego w selektywnym procesie plazmowym CVD
    Autorzy:
    Błaszczyk, I.
    Wróbel, A.M.
    Data publikacji:
    2003
    Słowa kluczowe:
    cienka warstwa
    warstwa węglikoazotku krzemu
    prekursor krzemoorganiczny
    selektywny proces plazmowy CVD
    wodór
    azot
    mieszanina
    struktura chemiczna
    morfologia powierzchni
    właściwości warstwy
    thin film
    silicon carbonitride film
    organosilicon precursor
    remote plasma CVD
    hydrogen
    nitrogen
    mixture
    chemical structure
    surface morphology
    properties of film
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    BazTech
    Artykuł
    Szczegóły
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies