Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Krzem" wg kryterium: Temat


Tytuł:
Krzem, jego własności, związki i pożytki : 4. odczyt popularny
Autorzy:
Joteyko-Rudnicka, Zofia
Data publikacji:
1917
Wydawca:
Warszawa : skł. gł. "Księgarnia Polska" ([Warszawa] : Druk. Art. K. Kopytowski)
Tematy:
Krzem
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Academica
Książka
Tytuł:
Krzem, jego własności, związki i pożytki : 4. odczyt popularny
Autorzy:
Joteyko-Rudnicka, Zofia
Data publikacji:
1903
Wydawca:
Warszawa : skł. gł. "Księgarnia Polska" ([Warszawa] : M. Lewiński)
Tematy:
Krzem
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Academica
Książka
Tytuł:
Experimental challenges for approaching local strain determination in silicon by nano-Raman spectroscopy
Autorzy:
Zhu, L.
Atesang, J.
Dudek, P.
Hecker, M.
Rinderknecht, J.
Ritz, Y.
Geisler, H.
Herr, U.
Geer, R.
Zschech, E.
Data publikacji:
2007
Słowa kluczowe:
krzem
rozpraszanie ramanowskie
cząstki srebra
spektroskopia ramanowska
krzem rozciągany
silicon
Raman scattering
Ag particles
tip enhanced Raman spectroscopy
Pokaż więcej
Dostawca treści:
BazTech
Artykuł
Tytuł:
Moduły fotowoltaiczne (PV) do zastosowań naziemnych : kwalifikacja konstrukcji i aprobata typu. Cz. 1-1, Wymagania szczególne dotyczące badań naziemnych modułów fotowoltaicznych (PV) wykonanych z krzemu krystalicznego
Współwytwórcy:
Polski Komitet Normalizacyjny Instytucja sprawcza Wydawca
Data publikacji:
copyright 2021
Wydawca:
Warszawa : PKN, copyright 2021
Tematy:
Krzem
Fotowoltaika
Metody badawcze
Normalizacja
Pokaż więcej
Dostawca treści:
Academica
Inne
Tytuł:
Wysokorezystywne wzorce do profilu rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych metodą oporności rozpływu w styku punktowym
Materiały Elektroniczne 2013 T. 41 nr 4
Wysokorezystywne wzorce do profilu rezystywności krzemowych warstw epitaksjalnych metodą oporności rozpływu w styku punktowym = High resistivity standards for measurement of resistivity profile in silicon epitaxial layers by spreading resistance method
Autorzy:
Brzozowski Andrzej
Współwytwórcy:
Lipiński Dariusz
Sarnecki Jerzy
Wodzińska Halina
Data publikacji:
2013
Wydawca:
ITME
Słowa kluczowe:
oporność rozpływu
warstwa epitaksjalna
krzem monokrystaliczny
rezystywność
Pokaż więcej
Dostawca treści:
RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
Książka

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies