Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Biblioteka  Akademii Nauk Stosowanych w Gnieźnie Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaBiblioteka  Akademii Nauk Stosowanych w Gnieźnie

Wyszukujesz frazę "etching process" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-15 z 15
    Tytuł:
    Materiały Elektroniczne 1981 nr 1/2(33/34)
    Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali = The investigations of some parameters of steel etching process
    Badania niektórych parametrów procesu trawienia stali
    Autorzy:
    Blinkow Wiktor
    Współwytwórcy:
    Mrówczyński Jacek
    Data publikacji:
    1982
    Wydawca:
    Wydaw. Przemysłu Maszynowego "WEMA"
    Słowa kluczowe:
    stal
    Electronic - materials
    etching process
    Materiały elektroniczne
    steel
    Electronic - journal - materials
    trawienie
    Elektronika - czasopismo - materiały
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
    Książka
    Szczegóły
    Tytuł:
    Nowy sposób i urządzenie do regeneracji kwaśnych roztworów chlorku miedzi stosowanych przy produkcji obwodów drukowanych
    Autorzy:
    Kopyto, D.
    Baranek, W.
    Myczkowski, Z.
    Leszczyńska-Sejda, K.
    Matusiewicz, M.
    Matusiewicz, T.
    Matusiewicz, W.
    Data publikacji:
    2018
    Słowa kluczowe:
    obwody drukowane
    regeneracja roztworów trawiących
    proces utleniania
    reaktor
    printed circuits
    etching solutions regeneration
    oxidation process
    reactor
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    BazTech
    Artykuł
    Szczegóły
    Tytuł:
    Innowacyjna, ekologiczna metoda regeneracji kwaśnych roztworów chlorku miedzi stosowanych w procesie trawienia obwodów drukowanych - efekt projektu zrealizowanego w ramach Programu Innowacyjna Gospodarka
    Autorzy:
    Kopyto, D.
    Data publikacji:
    2018
    Słowa kluczowe:
    obwody drukowane
    regeneracja roztworów trawiących
    proces utleniania
    reaktor
    printed circuits
    etching solutions regeneration
    oxidation process
    reactor
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    BazTech
    Artykuł
    Szczegóły
    Tytuł:
    The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
    Autorzy:
    Kalisz, M.
    Głuszko, G.
    Beck, R. B.
    Data publikacji:
    2010
    Słowa kluczowe:
    capacitance-voltage characteristics
    current-voltage characteristics
    fluorine plasma
    high temperature annealing process
    radio frequency reactive ion etching
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    BazTech
    Artykuł
    Szczegóły
    Tytuł:
    The Effect of High Temperature Annealing on Fluorine Distribution Profile and Electro-Physical Properties of Thin Gate Oxide Fluorinated by Silicon Dioxide RIE in CF4 Plasma
    Autorzy:
    Kalisz, M.
    Głuszko, G.
    Beck, R. B.
    Data publikacji:
    2010
    Wydawca:
    Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    capacitance-voltage characteristics
    current-voltage characteristics
    fluorine plasma
    high temperature annealing process
    radio frequency reactive ion etching
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Szczegóły
    Tytuł:
    The influence of the PCB design and the process of their manufacturing on the possibility of a defect-free production
    Autorzy:
    Vasilyev, Fedor
    Isaev, Vladimir
    Korobkov, Maksim
    Data publikacji:
    2021
    Słowa kluczowe:
    printed circuit board design parameter
    process characteristics
    exposure
    etching
    analytical model
    defect-free production
    parametr projektu płytki drukowanej
    charakterystyka procesu
    ekspozycja
    wytrawianie
    produkcja bez defektu
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    BazTech
    Artykuł
    Szczegóły
    Tytuł:
    Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu = Bosch process for silicon plasma etching
    Zastosowanie procesu Boscha do plazmowego trawienia krzemu
    Materiały Elektroniczne 2011 T.39 nr 2
    Autorzy:
    Góra Krzysztof
    Współwytwórcy:
    Kozłowski Andrzej
    Data publikacji:
    2011
    Wydawca:
    ITME
    Słowa kluczowe:
    Bosch process
    Electronic - materials
    Materiały elektroniczne
    współczynnik kształtu
    plasma etching
    trawienie plazmowe krzemu
    high aspect ratio
    Electronic - journal - materials
    proces Boscha
    Elektronika - czasopismo - materiały
    ICP OES
    Pokaż więcej
    Dostawca treści:
    RCIN - Repozytorium Cyfrowe Instytutów Naukowych
    Książka
    Szczegóły
      Wyświetlanie 1-15 z 15

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies